Главная

Данный сайт является информационным проектом компании QM GROUP RUSSIA, торгового партера DNF Co.Ltd. в России и СНГ.
Проект www.dnf-russia.ru не является официальным ресурсом DNF Co. Ltd.


 

logo

ПРОИЗВОДСТВО МАТЕРИАЛОВ ДЛЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ
ФУНКЦИОНАЛЬНЫХ ПОКРЫТИЙ ДЛЯ ДИСПЛЕЕВ, БЫТОВОЙ ТЕХНИКИ, АРХИТЕКТУРЫ И АВТОМОБИЛЕЙ

 


С 2001 года корейская компания DNF www.dnfsolution.com является производителем специальных материалов для электроники, нано-размерных материалов, композиций с редкоземельными элементами, защитных покрытий и пергидросилазана.

DNF входит в тройку крупнейших в мире производителей уникального кремниевого соединения пергидросилазана (неорганический полисилазан) и композиций на его основе. Основными клиентами компании являются азиатские производители электроники и микроэлектронных компонентов, такие как Samsung Electronics,  LG Electronics, SK Hynix, Nanya, Inotera, Rexchip, Powerchip, XM, LG Hausys, 3M.

Партнеры и представители компании DNF: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd.,  Inotera Memories, Inc., Winbond Electronics Corp. , Nanya Technology Corp., Semiconductor Manufacturing International Corp..  

Развивается сотрудничество с Intel, TSMC, Micron.

Компания владеет собственными патентованными изобретениями в сфере мультифункциональных покрытий. Специалисты научного департамента DNF разрабатывают мультифункциональные покрытия для электронных компонентов, дисплеев, бытовой техники, автомобилей, архитектуры и т.д.  Отчет о бизнесе компании DNF см. на http://cts.thinkpool.com

 

 


ОСНОВНЫЕ НАПРАВЛЕНИЯ ПРОИЗВОДСТВА КОМПАНИИ DNF

CVD / ALD прекурсоры в т.ч. на основе редкоземельных металлов для производства полупроводников и дисплеев, DRAM, Nand Flash Memory и System LSI.

Barrier Metal, Electronic Material, Gap Fill Material, High-k, Low-k, Metallization Metal, Etch Hard Mask Film, DPT Material, GST for PRAM, etc.

Функциональные (мультифункциональные) покрытия и монодисперстные наноэлементы

Антибликовые покрытия для дисплеев на основе неорганического полисилазана

 

 


R&D — научно-исследовательские и опытно-конструкторские работы (НИОКР; англ. Research and Development )

—  в сфере микроэлектроники и разработки материалов для полупроводников и интегральных схем,
—  в сфере также защиты дисплеев мобильных устройств, в т.ч. гибких OLED дисплеев.
—  в сфере катализаторов редкоземельных металлов, производства мультифункциональных защитных нано-материалов для строительства, бытовой техники и автопрома

Направления научно-исследовательских работ и изобретений компании DNF

Wire
Alpis-3
MABOC (Ep-Cu Seed)
CVD/ALD Cu Precursor
Electrode
TiCl4 / TEMAT / TDMAT / Ru Precursor
High-k
TEMAHf / TEMAZr
Zr Precursor
STO/BST/Zr Precursor
Low-k
Low-k (CVD) Precursor
Gap-Fill
Polysilazane
Flowable Oxide Precursor
Diffusion Barrier
TiCl4
TDMATi / Ta Precursor
Ru Precursor
Etch Hardmask
SiN
1-Hexene/Propylene (ACL)
SOC Precursor
Low Temp. Silicon (DPT)
DIPAS
ALD SiO2
New Memory
Ge / Sb / Te / Fe / Co / Ni Precursor
Gate Metal
(CVD) Ni / Co / W Precursor
ALD Metal
TSV
ALD SiO2 / Ti Precursor / Ta Precursor / CVD Cu
50nm 40nm 30nm 20nm 10nm~

 

* CVD : Chemical Vapor Deposition * ALD : Atomic Layer Deposition * Ep : Electroplating * SOC : Spin on Carbon
* ACL : Amorphous Carbon Layer * DPT : Double Patterning Technology * TSV : Through Silicon Via


 

 


 

 


a9r1r45rmq_nwn05o_594